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一種光刻掩模優(yōu)化設(shè)計方法
2021-04-11 00:00:00
云上高博會
http://www.eczace.xyz
關(guān)鍵詞：
光刻掩模
所屬領(lǐng)域:
項目成果/簡介:
本發(fā)明公開了一種光刻掩模優(yōu)化設(shè)計方法，該方法首先依據(jù)表 征掩模的網(wǎng)格格點尺寸大小對掩模進行分級，在粗網(wǎng)格上快速求解掩 模，然后對在粗網(wǎng)格上求解得到的掩模進行插值傳播到下一級較細網(wǎng) 格上進行細化校正，最終實現(xiàn)了掩模的快速優(yōu)化。
項目階段:
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