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真空鉬絲爐
產品詳細介紹 真空鉬絲爐 產品編號：Cx005 ◎產品說明 設備特點： 本電爐為立式結構，適用于金屬材料在高真空，高溫條件下進行退火、釬焊、燒結、除氣處理，同時也適用于石英材料的脫羥處理。 技術參數： 型號 名稱 額定功率 最高工作溫度 工作區尺寸 極限真空度 ZM-25-16 真空鉬絲爐 30KW 1600℃ Ф150×200 <3×10-3Pa ZM-36-10 真空鉬絲爐 36KW 1000℃ Ф300×400 <3×10-3Pa ZM-40-16 真空鉬絲爐 40KW 1600℃ Ф200×280 <3×10-3Pa ZM-45-15 真空鉬絲爐 45KW 1500℃ Ф340×400 <3×10-3Pa ZM-45-16 真空鉬絲爐 45KW 1600℃ Ф340×400 <3×10-3Pa ZM-66-12 真空鉬絲爐 66KW 1200℃ Ф350×600 <8×10-4Pa 產品采用專業技術生產制造的特點： 1. 獨有的加熱元件布置結構，爐溫均勻好，壽命長。 2. 獨有的保溫結構，節能性，長壽命。 3. 獨有的一體化水、電聯接結構，具有故障低，調試快。維護方便的特點。 4. 獨有的快冷方式，能快速降低爐溫，提高生產效率。從1000℃降到100℃只需1個多小時。 5. 模擬操作界面及PLC適應生產需要，故障低，自動化程度高，是連續生產產品品質的保證。
上海晨鑫電爐有限公司
2021-08-23
真空納米收集爐
產品詳細介紹 ZN-20真空納米收集爐 一.說明： 納米粉末收集爐是在真空或充保護氣體狀態下，利用中頻感應加熱的原理實現金屬與坩堝熔煉蒸發，然后利用一旋轉裝置收集納米級粉末的設備，節能、產量高、粉體粒度尺寸可控、設備操作簡單，設計新穎，是科研院校以及科研單位實驗室理想的制備納米粉末的設備，可以實現真空收集及真空密封。 二.主要技術參數：1.額定功率：20KW2.額定溫度：1800℃3.容量： 500g4.極限真空度：5X10-3Pa5.壓升率：≤4Pa/h 6 電源：中頻電源IGBT 三、結構說明 本產品由爐蓋、爐體、旋轉收集裝置、充氣系統、真空系統及高頻電源控制系統等組成： 1、爐體： 為全不銹鋼設計，爐殼采用雙層水冷結構。 2、旋轉收集裝置：爐體上設有旋轉收集裝置，呈扇形狀。收集器的內側設有粉末收集刀，旋轉的同時把納米粉導入收集瓶中。 3、真空系統： 采用二級泵，即k150油擴散泵與2XZ-8D 直聯泵。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。 4、爐架：由型鋼鋼板組焊成柜架結構，爐體安置在爐架上。 5、水冷系統：由各種閥、管道等相關裝置組成，并設有斷水時聲光報警、自動切斷加熱電源功能。 6、加熱電源：電源采用最新技術（IGBT模塊），整套電源相當于一臺電腦主機般大小，外觀小巧、節能環保。
上海晨鑫電爐有限公司
2021-08-23
真空熔煉爐
產品詳細介紹 真空熔煉爐 產品說明 一、設備用途本產品主要供大專院校、科研單位及生產企業在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。二、主要技術參數：1.電源功率：100KW2.額定電壓：380V3.中頻電壓：375V4.最高溫度：1700℃5.中頻頻率：1500-2500Hz（頻率自動跟蹤）6.坩堝容量：25Kg（鋼液）7.極限真空度：6.67×10-3Pa8.壓升率：4Pa/小時三、結構說明本產品由爐蓋、爐體、爐底、坩堝回轉機構、真空系統及中頻電源控制系統等組成。爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結構，保持爐殼溫度不超過60℃。爐蓋打開方式為手動，爐蓋上設有觀察孔及擋板，為便于熔化過程中添加合金元素，爐蓋上特設有合金加料器。爐體內有一感應線圈，通過手動轉動爐外手柄可輕松將坩堝內熔液澆入錠模，錠?？稍O計成水冷形式。坩堝上部設有一測溫裝置。真空系統采用二級泵，即K-300油擴散泵與2X-70機械泵，機械泵上設有電磁放氣閥避免停電后返油。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。中頻電源可選擇KGPS可控硅或IGBT、全數字電路等，電氣系統設有過流、過壓返饋及保護電路。集成電源
上海晨鑫電爐有限公司
2021-08-23
北京維意真空技術應用有限責任公司
北京維意真空技術應用有限責任公司，原名北京科立方真空技術應用有限公司，創立于2013年6月，主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養于一體的性的公司，公司擁有一支、產品技術工程師和維修技術工程師，具有豐富的行業經驗。
公司于2016年初至2017年末，陸續投入大量研發資金，針對等離子增強化學氣象沉積設備、原子層沉積設備和高低溫真空探針臺設備，以及附屬配件進行了系統、深入的研發、改進工作。竭盡所能滿足高校、研究所的教學、科研使用，同時減少相關進口設備的市場占有率，并力爭創造外匯，打出中國創造的名牌!
我們的客戶遍布國內各高校和研究院所、部分軍工單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域的實驗室，期待您就是我們的下一位客戶、朋友!
您的滿意微笑是我們一直努力追求的經營目標!
維意真空，為您服務，唯你成就是我們的宣傳口號!
技術創新、服務誠信是我們一直遵循的經營理念!
我們熱誠歡迎國內外先進的儀器制造商及科學工作者與我們聯系開展各層面的合作,打造成的真空系統產品、等離子體增強化學氣相沉積設備、原子層沉積設備和高低溫真空探針臺設備供應商。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25
網絡化遙控冷、熱水表
項目研究的背景及用途：
在 IC 卡冷、熱水表研制的基礎上，我們以一項發明專利和三項實用新型專利解決了該項研究的關鍵技術，即抗銹蝕閥門技術、長壽命供電和低功耗技術、密封性技術及集中，透明管理技術。進而發展為網絡化遙控冷、熱水表產業化工程。網絡化遙控冷、熱水表保持了原 IC 卡冷、熱水表中的無銹蝕閥門特點，但沒有電池與 IC 卡插座。在每棟樓中設置低位控制單元，該低位控制單元承擔向各戶水表直流供電;具備應急充電電源;具有故障自動診斷功能;開關水表中控制閥功能;無線上網與主控 PC 機通信功能。實現了管理部門利用無線網絡資源對用戶冷、熱水表進行綜合管理和遙控監測的目的。
技術原理及流程：
網絡化遙控冷、熱水表由三部分組成:低功耗電子式基表、低位控制單元及主控微機。成果水平及主要技術指標:技術水平國內領先，具有一項發明專利和三項實用新型專利的獨立知識產權。市場分析及效益預測:應用于方興未艾的房地產業，適應國家及廣大居民對能源與水資源的管理和節約要求。還可應用于洗浴中心等用水大戶，提高節水的自覺性，也可應用于對城市地下水的管理等。
天津大學
2021-04-11
一種相變蓄冷裝置
發明公開了一種相變蓄冷裝置，包括蓄冷模塊和外循環模塊，所述外循環模塊包括空調負荷，冷水機組、水泵、穩壓閥和止回閥；所述蓄冷模塊包括外殼、蓄冷槽、入水口、出水口、集水槽、共晶鹽相變材料和三維網狀流道；所述入水口和出水口設置在所述外殼上，所述蓄冷槽設置在所述外殼內，在所述蓄冷槽的兩側設置所述集水槽，所述三維網狀流道配置在所述蓄冷槽內，所述蓄冷槽內非所述三維網狀流道空間填充所述共晶鹽相變材料。本發明既可以進行電力的移峰填谷從而保障電網安全、提高發電和輸變電設備的效率并且有效利用了有限資源，同時降低了空調系統的運行費用，很好地實現了間歇性工作。
東南大學
2021-04-11
LJB系列半導體冷阱（槽）
產品詳細介紹 LJB系列半導體冷阱，應用半導體致冷器件為固體冷源，以智能化數量控溫儀表為控制核心，采用大功率半導體器件為控制元件，因此，具有體積小、無噪聲、操作簡便、控溫精度高等優點，廣泛應用于軍工、電子、石油化工、生物制藥、大專院校及科研院所等領域，是理想的實驗室和產品檢測儀器。
主要技術指標 1．冷室尺寸：Φ80～Φ300mm（直徑） 100～300mm（深度） 2．溫度范圍：＋60℃～—65℃ 3．控溫精度：±0.5℃～±0.01℃ 根據用戶的具體要求，增加計祘機通訊接口和升降溫速率控制的功能，根據用戶的特殊要求，承接異型產品的研制開發項目。
天津市中科電子致冷有限公司
2021-08-23
維意真空小型桌面磁控濺射鍍膜機支持定制
MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機
真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質量流量計：10sccm、50sccm質量流量控制器各1套；膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25
維意真空小型桌面熱蒸發鍍膜機支持定制
EV-246小型電阻蒸發鍍膜機真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能）；蒸發源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發電源，功率2KW，配源間防污隔板；膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。
北京維意真空技術應用有限責任公司
2025-04-25
真空鍍膜（PVD 技術）
真空涂層技術起步時間不長，國際上在上世紀六十年代才出現將 CVD（化學氣相沉積）技術應用于硬質合金刀具上。由于該技術需在高溫下進行（工藝溫度 高于 1000oC），涂層種類單一，局限性很大，起初并未得到推廣。到了上世紀七十年代末，開始出現 PVD（物理氣相沉積）技術，之后在短短的二、三十年間 PVD 涂層技術得到迅猛發展，究其原因： （1）其在真空密封的腔體內成膜，幾乎無任何環境污染問題，有利于環保； （2）其能得到光亮、華貴的表面，在顏色上，成熟的有七彩色、銀色、透明色、金黃色、黑色、以及由金黃色到黑色之間的任何一種顏色，能夠滿足裝飾性的各種需要； （3）可以輕松得到其他方法難以獲得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂層、復合涂層，應用在工裝、模具上面，可以使壽命成倍提高，較好地實現了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂層技術具有低溫、高能兩個特點，幾乎可以在任何基材上成膜，因此，應用范圍十分廣闊，其發展神速也就不足為奇。真空涂層技術發展到了今天還出現了 PCVD（物理化學氣相沉積）、MT-CVD（中溫化學氣相沉積）等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。
西安交通大學
2021-04-10