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產品詳細介紹 ZN-20真空納米收集爐 一.說明： 納米粉末收集爐是在真空或充保護氣體狀態下，利用中頻感應加熱的原理實現金屬與坩堝熔煉蒸發，然后利用一旋轉裝置收集納米級粉末的設備，節能、產量高、粉體粒度尺寸可控、設備操作簡單，設計新穎，是科研院校以及科研單位實驗室理想的制備納米粉末的設備，可以實現真空收集及真空密封。 二.主要技術參數：1.額定功率：20KW2.額定溫度：1800℃3.容量： 500g4.極限真空度：5X10-3Pa5.壓升率：≤4Pa/h 6 電源：中頻電源IGBT 三、結構說明 本產品由爐蓋、爐體、旋轉收集裝置、充氣系統、真空系統及高頻電源控制系統等組成： 1、爐體： 為全不銹鋼設計，爐殼采用雙層水冷結構。 2、旋轉收集裝置：爐體上設有旋轉收集裝置，呈扇形狀。收集器的內側設有粉末收集刀，旋轉的同時把納米粉導入收集瓶中。 3、真空系統： 采用二級泵，即k150油擴散泵與2XZ-8D 直聯泵。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。 4、爐架：由型鋼鋼板組焊成柜架結構，爐體安置在爐架上。 5、水冷系統：由各種閥、管道等相關裝置組成，并設有斷水時聲光報警、自動切斷加熱電源功能。 6、加熱電源：電源采用最新技術（IGBT模塊），整套電源相當于一臺電腦主機般大小，外觀小巧、節能環保。

產品詳細介紹 真空熔煉爐  產品說明 一、設備用途本產品主要供大專院校、科研單位及生產企業在真空或保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。二、主要技術參數：1.電源功率：100KW2.額定電壓：380V3.中頻電壓：375V4.最高溫度：1700℃5.中頻頻率：1500-2500Hz（頻率自動跟蹤）6.坩堝容量：25Kg（鋼液）7.極限真空度：6.67×10-3Pa8.壓升率：4Pa/小時三、結構說明本產品由爐蓋、爐體、爐底、坩堝回轉機構、真空系統及中頻電源控制系統等組成。爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結構，保持爐殼溫度不超過60℃。爐蓋打開方式為手動，爐蓋上設有觀察孔及擋板，為便于熔化過程中添加合金元素，爐蓋上特設有合金加料器。爐體內有一感應線圈，通過手動轉動爐外手柄可輕松將坩堝內熔液澆入錠模，錠模可設計成水冷形式。坩堝上部設有一測溫裝置。真空系統采用二級泵，即K-300油擴散泵與2X-70機械泵，機械泵上設有電磁放氣閥避免停電后返油。真空機組上設有放氣閥及充氣閥。中頻電源可選擇KGPS可控硅或IGBT、全數字電路等，電氣系統設有過流、過壓返饋及保護電路。集成電源 

產品詳細介紹在科學實驗過程中，有些物質在大氣狀態下極易氧化和潮解，這使得試驗物質的化學反應及樣品的前級處理非常困難，影響了試驗過程和測試結果。真空手套箱（又稱真空惰性氣體操作箱）有效地解決了這些問題，該裝置可使試驗樣品能夠安全的放進和取出，并在無氧無水狀態下自如的操作、反應和測試，確保了科學試驗的正常進行。該產品是高等院校、科研單位、企業實驗室開展科學實驗的理想裝置，廣泛應用于生化、冶金、電子、化工、地質、礦產、醫藥等。一、 手套箱內水氧含量在400~1000ppm的，可選用真空手套箱，采用抽真空充保護性氣體的置換方式，置換快、用氣省，比較經濟實用。真空手套箱也可以采用常壓充、排氣的方式進行氣體置換，采用常壓充排氣的方式比較費時廢氣，但可以采用充排氣的方式維持手套箱的氣體氛圍。二、 手套箱內水氧含量要求在1ppm以下的實驗，建議在選用真空手套箱的同時，配置除氧除水系統，以進一步深度除氧除水，并維持手套箱的氣體氛圍。主是對O2，H2O，有機氣體的清除，氣體介質：N2、Ar、He等惰性氣體。保證了系統高效運作和低能源消耗。主要技術指標CLX-1真空手套箱箱體材質：SUS304不銹鋼，厚度：6mm過渡室真空度：-0.1MPa 箱體真空度：-0.1MPa過渡室尺寸（單位：mm）：Φ220×250箱體尺寸（單位：mm）：600×500×650保壓時間：20小時以上手套口直徑：Φ145mm以上使用氣體：氬氣、氦氣、氮氣（純度99.95％以上）可以根據實驗需要加裝各類加熱控溫以及其它等設備CLX-2真空手套箱箱體材質：SUS304不銹鋼，厚度：6mm過渡室真空度：-0.1MPa 箱體真空度：-0.1MPa過渡室尺寸（單位：mm）：Φ280×350箱體尺寸（單位：mm）：800×650×700保壓時間：20小時以上手套口直徑：Φ145mm以上使用氣體：氬氣、氦氣、氮氣（純度99.95％以上）可以根據實驗需要加裝各類加熱控溫以及其它等設備CLX-3真空手套箱 箱體材質：SUS304不銹鋼，厚度：6mm過渡室真空度：-0.1MPa箱體真空度：-0.1MPa過渡室尺寸（單位：mm）：Φ340×400箱體尺寸（單位：mm）：1200×700×1120保壓時間：20小時以上手套口直徑：Φ145mm以上使用氣體：氬氣、氦氣、氮氣（純度99.95％以上）可以根據實驗需要加裝各類加熱控溫以及其它等設備  特點：  *不銹鋼結構、抗腐蝕、易清洗、無污染。*觀察窗為30毫米厚有機玻璃，視角廣闊。*箱內配照明燈泡，克服了箱外照明箱體內有死角的缺點。 *箱內配備多孔電插座，方便進行科學試驗。*箱內可進行局部加熱。*操作手套采用厚乳膠手套，密封可靠。*操作箱內最高正壓：0.06MPa*所有規格均可根據用戶要求定做。敬告：*禁止在真空狀態下打開艙門、手套口壓蓋或進行拆卸檢修。*內置電源為220V、50HZ、1KW。*手套應先于或同時于箱體抽真空，后于或同時于箱體停止抽真空。*外接氣源管件應適配、接插應密封牢靠，充氣時不宜超過零壓即1個大氣壓。

產品詳細介紹主要技術指標1、練泥產量：30Kg/h；2、電源及功率：AC380V/2.2KW；3、真空度：-0.096MPa；4、練泥軸轉速：25r/min；5、出泥口大小：∮55mm；6、出泥含水率：19～21%。

產品詳細介紹 真空碳管爐  ◎產 品 說 明  設備特點：  真空碳管爐主要供大專院校、科研單位在真空或保護氣氛條件下對無機材料（如功能陶瓷、透明陶瓷、碳化硅、氧化鋯、氧化鋅、二氧化鋁等）及金屬材料（如硬質合金）等進行燒結處理。  技術參數：  1、型號：ZT-25-20  2、 額定功率：25KW3、最高工作溫度：2000℃  4、工作區尺寸：直徑90x120  5、極限真空度：6.67x10-3Pa6、溫度控制：熱電偶+紅外自動控制  結構說明：  本產品是由爐體、爐蓋、爐底、真空系統及電氣控制系統等組成，占地小，易于搬運。  1、爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結構，保持爐殼溫度不超過60℃.打開爐蓋裝料，爐體內有用碳氈或金屬隔熱屏做成的保溫層，發熱元件采用石墨筒。爐體側部設計有觀察窗及熱電偶，以便進行溫度分段自動控制，及1700℃以下采用鎢錸熱電偶，1000℃-2000℃采用紅外傳感器。  2、真空系統采用二級泵，及K-159油擴散泵與2XZ-8D直聯泵，真空機組上設有放氣閥及充氣閥。  3、電氣控制采用大電流變壓器、調壓器及溫度控制儀表組成溫度控制執行回路。電路設有斷水、過流、超溫報警及保護功能。 

產品詳細介紹 真空鉬絲爐  產品編號：Cx005  ◎產品說明  設備特點：  本電爐為立式結構，適用于金屬材料在高真空，高溫條件下進行退火、釬焊、燒結、除氣處理，同時也適用于石英材料的脫羥處理。  技術參數：  型號 名稱 額定功率 最高工作溫度 工作區尺寸 極限真空度  ZM-25-16 真空鉬絲爐 30KW 1600℃ Ф150×200 <3×10-3Pa  ZM-36-10 真空鉬絲爐 36KW 1000℃ Ф300×400 <3×10-3Pa  ZM-40-16 真空鉬絲爐 40KW 1600℃ Ф200×280 <3×10-3Pa  ZM-45-15 真空鉬絲爐 45KW 1500℃ Ф340×400 <3×10-3Pa  ZM-45-16 真空鉬絲爐 45KW 1600℃ Ф340×400 <3×10-3Pa  ZM-66-12 真空鉬絲爐 66KW 1200℃ Ф350×600 <8×10-4Pa  產品采用專業技術生產制造的特點：  1. 獨有的加熱元件布置結構，爐溫均勻好，壽命長。  2. 獨有的保溫結構，節能性，長壽命。  3. 獨有的一體化水、電聯接結構，具有故障低，調試快。維護方便的特點。  4. 獨有的快冷方式，能快速降低爐溫，提高生產效率。從1000℃降到100℃只需1個多小時。  5. 模擬操作界面及PLC適應生產需要，故障低，自動化程度高，是連續生產產品品質的保證。 

北京維意真空技術應用有限責任公司，原名北京科立方真空技術應用有限公司，創立于2013年6月，主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養于一體的性的公司，公司擁有一支、產品技術工程師和維修技術工程師，具有豐富的行業經驗。        公司于2016年初至2017年末，陸續投入大量研發資金，針對等離子增強化學氣象沉積設備、原子層沉積設備和高低溫真空探針臺設備，以及附屬配件進行了系統、深入的研發、改進工作。竭盡所能滿足高校、研究所的教學、科研使用，同時減少相關進口設備的市場占有率，并力爭創造外匯，打出中國創造的名牌!        我們的客戶遍布國內各高校和研究院所、部分軍工單位和電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域的實驗室，期待您就是我們的下一位客戶、朋友!        您的滿意微笑是我們一直努力追求的經營目標!        維意真空，為您服務，唯你成就是我們的宣傳口號!        技術創新、服務誠信是我們一直遵循的經營理念!        我們熱誠歡迎國內外先進的儀器制造商及科學工作者與我們聯系開展各層面的合作,打造成的真空系統產品、等離子體增強化學氣相沉積設備、原子層沉積設備和高低溫真空探針臺設備供應商。

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MS-246小型多靶磁控濺射鍍膜機 真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；升降基片臺：尺寸直徑100mm，高度60～120mm可調，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能），可選配偏壓清洗功能；磁控靶：直徑2英寸2只（可升級成3只），兼容直流和射頻，可以濺射磁性材料的靶材；濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；質量流量計：10sccm、50sccm質量流量控制器各1套；膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。