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改進鋁型材時效處理工藝，鋁合金的斷后伸長率比普通時效工藝下變大（約15%），減小后期鋁合金彎管過程中出現裂紋或者斷裂的概率，也避免了工藝造成鋁合金管材容易刮擦劃傷的質量問題；通過鋁合金成形CAE技術，選擇合理工藝參數，提高鋁合金成形質量；采用等溫擠出技術改善材料強度和塑性。

隨著光學器件在日常生活領域越發廣泛地應用，對其新功能的需求也加大，其中高折射率材料的研究也越來越多,特別是高折射率聚合物（HRIP）。近來，由于其在高級光電制造中的潛在應用，HRIPs已經吸引了相當多的關注，例如先進顯示設備的高性能基底，用于有機發光二極管顯示器，光學黏合劑或密封膠材料，高級光學應用中的減反射涂層，193-nm浸潤蝕刻光阻劑，和微透鏡組件中的電荷耦合式裝置以及互補金屬氧化物半導體圖像傳感器。然而，一般普通聚合物的折光指數的范圍在1.30～1.70之間，但是在實際應用中要求更高的折光指數（大于1.70，甚至 1.80）。由高折射率無機納米粒子和有機高分子基體組成的納米復合材料可以輕易地獲得高的折光指數。本項目將高折射率的無機納米粒子炭黑、二氧化硅、二氧化鈦等添加到各種聚合物基體中，獲得高折射率光學薄膜，且通過對無機粒子和聚合物基體間的界面設計，使得無機粒子少量填充即可獲得高折射率光學薄膜。具有核心技術（自主知識產權），發明專利1項，獲得上海市自然科學基金資助。

電鍍作為金屬材料的表面改性技術已經取得了很廣泛的應用，近年來電鍍也開始在非金屬導電材料的表面改性領域取得相當規模的工業應用。但高電阻率氧化物材料表面金屬鍍覆一直以來不能采用電鍍工藝，這是因為這類材料的電子電導小，電鍍液中被鍍金屬離子不能從材料表面得到電子，所以不能沉積下來。傳統的絕緣氧化物材料表面鍍覆金屬的方法有化學鍍、真空蒸鍍、濺射鍍、涂覆金屬漿料后再燒結等方法，各方法都有各自的優缺點。如含有氨水的化學鍍銀溶液不穩定，甚至有可能生成有爆炸危險的疊氮化合物。真空蒸鍍和濺射鍍有設備投資大、維護費用較高等缺點，涂覆金屬漿料后再燒結的方法有金屬層厚度不均勻等缺點。 我們發明了一種高電阻率金屬氧化物材料表面電鍍的技術，解決了多種高電阻率金屬氧化物材料表面不能電鍍的問題。高電阻率金屬氧化物材料電鍍的基本過程是首先對氧化物材料表面進行原子氫致電導改性處理，提高其表面電子電導，使材料表面出現半導化甚至金屬化，然后在氧化物材料表面直接電鍍金屬層。我們在這個方向上已經進行了近十年的研究，發表了十幾篇學術論文，申請了兩項發明專利。      本技術適用于由氧化物功能材料制造的電子元器件表面電鍍，也適用于氧化物材料顆粒或塊體的電鍍等，所得金屬鍍層厚度均勻，與氧化物材料表面具有良好的結合力。

一種高孔隙率多孔陶瓷的制備方法，它涉及多孔陶瓷的制備方法。本發明要解決現 有直接發泡技術制備高孔隙率多孔陶瓷中，漿料發泡和泡沫固化過程相互分離及制備工藝復 雜的問題。本發明高孔隙率多孔陶瓷具有均勻的球狀蜂窩孔結構單元，孔壁以多孔窗口相互連通，孔隙率可達 90%以上，制法：一、稱取原料，球磨得漿料；二、將漿料置于真空室中 除氣；三、測試漿料的過冷點；四、將漿料降溫，得過冷漿料；五、將過冷漿料進行減壓發 泡與泡沫固化；六、將固化泡沫材料干燥，得陶瓷素坯；七、燒結陶瓷素坯，得高孔隙率多 孔陶瓷。本發明將漿料發泡與泡沫固化過程有機結合，工藝簡單，制備的陶瓷孔隙率為 90% 以上。本發明用于制備高孔隙率多孔陶瓷

本發明公開了一種高折射率含硫聚苯并咪唑及其制備方法，其特點是將堿或強堿弱酸鹽1-138份，助劑1-20份，催化劑0.1-50份，含二氟二苯并咪唑單體486份和溶劑500-2000份加入帶有攪拌器和溫度計的反應釜中，加入硫化物126.5-248份，在氮氣保護下，于溫度150-210℃脫水反應0.5-6h，在溫度180-230℃繼續反應0.5-12h，得到粘稠的聚合物溶液，待上述溶液溫度降至80℃時，再將反應液倒入水中，析出線條狀沉淀；將上述線條狀聚合物經水洗滌3次，于溫度80～120℃干燥2～8h，粉碎，分別用去離子水、乙醇萃取提純，在溫度80～120℃干燥1～20h，獲得高折射率含硫聚苯并咪唑樹脂。它具有折射率高、透光性好、熱性能優異的優點，該含硫聚苯并咪唑可用于高折射率光學微透鏡材料。

本發明公開了一種高電阻率高磁性能核殼結構NdFeB磁粉，該發明首先將配好的原料進行感應熔煉，制成平均厚度為0.1~0.5mm的Nd2Fe14B速凝片；將制得的速凝片進行氫破碎，脫氫后得到粗破碎磁粉；然后在惰性氣體保護氣氛下，進行氣流磨，得到粒度在1~6μm之間且粒度接近的磁粉；然后將磁粉放入管式爐中，通入流速為50~300mL/min的氨氣加熱到300~400oC并且保溫5~30min后隨爐冷卻。保溫和隨爐冷卻時繼續通入氨氣，即可得到核殼結構的NdFeB磁粉。該磁粉由于氮化層的隔絕效果，具有電阻率高、耐腐蝕性強、去磁耦合效果好、磁性能高、氮化層厚度可控以及氮化層包覆均勻等特點。

該研究利用水浴提拉法制備了雙層定向排列Ag NWs網絡?；谠摼W絡的柔性傳感器可以實現不同變形行為的在線監測。基于該傳感器制備了實時手勢探測器，在計算機中對手勢進行重建，為虛擬與現實交互提供了可能性。該研究成果已經在SCIENTIC REPORTS 上成功發表，并入選該期刊年度下載次數Top 100。

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產品詳細介紹     【1路高清+2路高清SDI采集卡】     【應用領域】 1、教育課件錄制、多媒體錄播錄像、會議錄制、視頻會議，遠程教育培訓； 2、大屏幕拼接、電視墻行業、虛擬演播室、虛擬現實、工控、游戲機等設備； 3、安檢 X 光機、雷達圖像信號、VDR紀錄儀；   【產品特點】 · 可同時采集1路通用高清視頻信號，2路SD/HD/3G-SDI模擬雙聲道音頻信號。 · VGA輸入信號可達640×400-2048×1536，像素率低于170MHz即可。 · VGA接口可以通過轉接線纜采集分量信號。 · 微軟AVStream標準驅動，可支持大部分Windows上的多媒體視頻軟件或流媒體軟件。   【高級特性】 · 高性能DMA傳輸功能。 · VGA輸入支持自動輸入視頻格式偵測，自動視頻有效區域偵測，自動VGA采集相位調節。 · VGA信號提供安全模式，支持采集最大行采樣數小于等于4095內的VGA信號。 · 支持手工設定有效畫面區域功能，可用于畫面的剪裁和對特殊輸入信號時序的支持。 · 支持多階畫面縮放功能，具有三種針對畫面寬高比的縮放模式。 · 支持垂直濾波和運動自適應去隔行功能。 · 硬件色彩轉換，可輸出RGB24，RGB32，YUY2，UYVY，I420色彩格式。 · VGA輸入支持色彩調節功能，可調節畫面的對比度、亮度、色彩飽和度、色相、Gamma;并可單獨調節R，G，B三色的亮度、對比度。 · 支持畫面水平、垂直反轉功能。   【產品規格】 幾何尺寸：117mm x94.67mm 主機接口：PCI-Express x4, Half-length,*700MB/s 傳輸帶寬 輸入接口： 1個DVI-I 接口 (可轉接HDMI，VGA，YPbPr) 2個BNC接口 (接 2 路SD/HD/3G-SDI信號) 最大采樣率：CVBS：54MHz (4x Oversampling) RGB/分量：170MHz HDMI/DVI：225MHz SDI最大采樣速率：3G 板載內存：256MB DDR2，工作頻率為 160 Mhz，位寬64bit VGA輸入格式：640x400-2048x1536，像素率低于170MHz即可 分量輸入格式：480i、576i、480p，576p，720p，1080i，1080p HDMI輸入格式： 符合HDMI 1.3 標準，支持36bit DeepColor CVBS輸入格式 標準PAL/NTSC SDI輸入格式 SD/HD/3G-SDI，符合SMPTE-259/274/296/372/424/425/292標準 輸出圖像格式大小：40x30-2048x1536，幀率： 1-100 fps，色彩：YUY2, UYVY, RGB24, RGB32, I420 操作系統支持：Windows? XP Professional, Windows? Server 2003, Windows Vista?, Windows? Server 2008 and Windows? 7 (x86) 功耗：<= 8W  

本實用新型提供一種移動式可視化高含水率淤泥泥水分離裝置，包括脫水裝置，滲透排水裝置，水 分收集裝置和移動裝置，所述的脫水裝置包括一個上端開口的脫水槽，所述的脫水槽包括四塊周向設置 的側板和一塊水平設置的與側板連接的底板;所述的滲透排水裝置包括土工布、透水層和支撐板;所述 的水分收集裝置包括排水槽、透水板和儲水容器。本實用新型針對高含水率淤泥流動性強而難以成型問 題，能將淤泥中過量水分有效分離，進而